| 14 |
Synthesis and Application of Polymer Containing Photo-acid Generator for Atomic Force Microscope Lithography
권기진, 장유진, 안석훈, 이해원
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 13 |
Effect of UV Treatment on Silsesquioxane-Based Films
구형준, 서효선, 박용준, 차국헌
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 12 |
Preparation and Application of Patternable Bottom Antireflective Coating Material
허근, 권기옥, 차상호, 윤상웅, 이무영, 이종찬
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 11 |
PR-free patterning of nanoporous low dielectric films by using photo acid generator
임진형, 임선기
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
| 10 |
A Novel Chemically Amplified Photosensitive Polyimide Based on Norbornene End-Capped Poly(amic acid ethoxymethylester)
박용영, 정명섭, 정성욱
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 9 |
Electrical and Field-Emission Properties of Chemically Assembled Single-Walled Carbon Nanotube Patterns
정명섭, 정성욱, 허정나, 이정희, 김종민, 정희태
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 8 |
Synthesis of Novel Polymer Containing Photo-acid Generator and Its Application of Atomic Force Microscope Lithography
윤현진, 장유진, 권기진, 오희영, 이해원
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 7 |
Effect of UV Pretreatment on the Formation of Nanoporous Low Dielectric Thin Films
김수한, 류이열, 한준희, 차국헌
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 6 |
Effect of UV Pretreatment on the Formation of Nanoporous Low-k Organosilicate Thin Films
김수한, 류이열, 한준희, 차국헌
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
| 5 |
Photo-curable MSSQ films for low-k application
김수한, 류이열, 한준희, 차국헌
한국고분자학회 2004년 가을 학술대회 |
