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Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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The investigation of plasma pre-treatment for Ru deposition by plasma enhanced atomic layer deposition
김진호, 박진규, 전희영, 김현정, 장우출, 전형탁
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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Effects of Al2O3/ZrO2 Nanolaminate Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Moisture Barrier Properties
최용혁, 전형탁, 이상헌, 최학영, 신석윤, 박주현, 정현수, 함기열, 양희왕, 오주홍
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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The study on H2 plasma treatment effect in IGZO thin film transistor
김지훈, 방석환, 이승준, 박주현, 고영빈, 최학영, 신석윤, 함기열, 이상헌, 전형탁
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Adhesion properties of ruthenium thin films deposited by remote plasma atomic layer deposition
박태용, 최동진, 최학영, 전형탁
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Remote Plasma ALD법을 이용한 코발트 금속유도 결정화법에 관한 연구
홍진원, 김명식, 이근우, 배규식
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Study on characteristics of cobalt film deposited by Remote Plasma ALD method
김근준, 이근우, 한세진, 정우호, 배규열, 전형탁
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods.
김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
