| 10 |
Fabrication of ultrathin nanostructures on the flexible substrates via secondary sputtering phenomenon and its application in flexible transparent conducting films
장성우, 전환진, 정희태
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
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Sub 20nm Nano Patterning on the Flexible Substrates by Secondary Sputtering Lithography and its Application to Flexible Transparent Conducting Film
장성우, 전환진, Cheng Jin Ahn, Min Liang Jin, 정희태
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
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Alignment of SSY using 1 dimensional nano pattern via SSL method
김정연, 전환진, 정희태
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
| 7 |
Uniform alignment of SSY using patterns fabricated by Secondary Sputtering Lithography
김정연, 정현수, 전환진, 정희태
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 6 |
Directly 10nm scale patterning on the flexible substrate for high performance transparent electrode by secondary sputtering lithography
장성우, 전환진, 정희태
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 5 |
Alignment of Lyotropic Chromonic LCs using line patterned substrates made by SSL
김정연, 전환진, 정현수, 정희태
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 4 |
Direct sub-20nm patterning on the flexible substrates by secondary sputtering phenomenon and application for flexible transparent electrode and devices
장성우, 정희태
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
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The fabrication of 3-dimensional complex patterns with 10nm scale by secondary sputtering phenomenon
전환진, 정현수, 김종선, 정희태
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
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A versatile patterning method for 3-dimensional complex pattern with 10nm scale over large area by secondary sputtering phenomenon
전환진, 김종선, 김경환, 백연경, 김대우, 최종길, 이지선, 정희태
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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The nobel nano-patterning technology for high resolution pattern(sub 20nm) by secondary sputtering phenomenon over large area
전환진, 김경환, 백연경, 김대우, 정희태
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
