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번호	제목
21	A cyclic process to control the diameter of SiO₂ contact holes 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
20	Effect of gas composition on the angular dependence of SiO₂ etch rates in fluorocarbon plasmas 박정근, 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
19	Hydrophobization of Silk Fibroin Nanofiber Surfaces by Fluorocarbon Plasma Treatment to Regulate Cell Adhesion and Proliferation Behavior 이민영, 이재백, 방수미, 박원호, 조동환, 권오형 한국고분자학회 2014년 봄 학술대회
18	Angular dependence of SiO₂ etch rate in fluorocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2014년 가을 학술대회
17	Realistic and real-time contact hole etch process simulation: 3D-SPEED 육영근, 임연호, 장원석, 유동훈, 최광성, 조덕균, 이세아 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회
16	Multi-GPUs based 3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etch process 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
15	3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
14	Plasma surface reaction modeling coupled with global bulk plasma model in fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
13	Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO₂의 식각특성에 관한 연구 염근영, 전민환, 김회준 한국재료학회 2013년 봄 학술대회
12	Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회