화학공학소재연구정보센터
번호 제목
12 Oxygen absorption of partially reduced TiO2 by hydrogen plasma treatment
채윤근, 박상원, 박진원
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
11 수소 플라즈마 전처리 공정을 통한 단결정 실리콘 웨이퍼의 표면 패시베이션 특성 비교
김영도, 강민구, 박성은, 송주용, 탁성주, 권순우, 윤세왕, 김동환
한국재료학회 2010년 봄 학술대회
10 Atomic layer deposition of Ni thin films on nitinol shape memory alloy
정영근, 권세훈, 이경석
한국공업화학회 2010년 가을 학술대회
9 Electrical, Structural and Optical Properties ofZnO Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
공선미, 소우빈, 김은호, 정지원
한국공업화학회 2010년 가을 학술대회
8 Changes in properties of ZnO:Al Films with deposition temperature fabricated by E-beam evaporation
김대현, 김도윤, 정은경, 김인수, 최세영
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
7 Hydrogen effect of ZnO:Al by RF magnetron sputtering in H2/Ar atmosphere
Jeong-Seop Lee, Chang-Sik Son, Jae-Sung Hur, Byoung-Hoon Lee, Jung-Bin Song, Jong-Hyeob Baek, In-Hoon Choi
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
6 LCD용 투명전극으로의 적용을 위한 알루미늄이 도핑된 ZnO 박막|Al-doped ZnO films as transparent electrodes for liquid crystal displays
오병윤, 정민창, 문태형, 이웅, 명재민, 황정연, 서대식
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
5 UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정|UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정
이종무
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
4 수소처리를 통한 탄화규소 쇼트키 다이오드의 역방향 특성 개선|Improvements in the reverse characteristics of 4H-SiC Schottky barrier diodes by hydrogen treatments
김대환, 나훈주, 정상용, 송인복, 엄명윤, 송호근, 김형준
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
3 수소 플라즈마 처리가 Pd에 의한 MILC에 미치는 영향에 관한 연구|A Study on the effect of Hydrogen plasma on Pd-Induced Lateral Crystallization (Pd-ILC)
오현욱, 윤여건, 주승기
한국재료학회 2003년 가을 학술대회