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Self-polishing properties of ZnMA containing resin
한상석, 박현, 전호환, 황도훈
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
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Study of Slurry pH and oxidizer on Ge-doped SbTe film in PRAM CMP
Soo-Beom Kima, Jong-Young Cho, Jae-Hyung Lima, Hee-Sub Hwang, Jin-Hyung Park, Eung-rim Hwang, Jea-Gun Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
| 5 |
Role of H2O2 as oxidizer on the Ge-doped SbTe film for Chemical Mechanical polishing
Sang-Hwa Woo, Jea-Gun Park, Jong-Young Cho, Hao Cui, Eung-Rim Hwang, Jin-Hyung Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
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Effect of pH in Colloidal Silica Slurry on Polishing Rate Selectivity of Nitrogen-doped Ge2Sb2Te5 to SiO2 in Chemical Mechanical Polishing
Woong-Jun Hwnag, Jong-Yung Cho, Hao Cui, Jin-Hyung Park, Ungyu Paik, Jea-Gun Park
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
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Self-polishing copolymers for marine coatings
박현, 전성경
한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
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Effects of Non-Prestonian Behavior of Ceria Slurry with Anionic Surfactant on Abrasive Concentration and Size in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Hyuk-Yul CHOI, Hyun-Goo KANG, Jun-Seok KIM, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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알칼리 용액에서의 전기 화학 연마 공정에 의한 구리박막 평탄화에 관한 연구
박경순, 오윤진, 정태우, 김일욱, 백종성, 정찬화
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
