| 번호 | 제목 |
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TCP-PECVD를 이용한 n-type 마이크로결정질 실리콘 박막형성에 공정조건이 미치는 영향|The Effect of Process Conditions for Formation of n-type Microcrystalline Silicon Thin Films by TCP-PECVD 이형철, 이유진, 신진국, 염근영 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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AlCl3와 NiCl2 화합물 분위기를 이용한 LPCVD 비정질 실리콘 박막의 고상결정화|Solid phase crystallization of LPCVD amorphous Si films using AlCl3 and NiCl2 atmosphere 엄지혜, 안병태 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
