화학공학소재연구정보센터
번호 제목
30 Adsorption of Copper(Ⅱ) ion on Keratose/Silk Fibroin (SF) Nanofiber Non-woven Mat
백두현, 박영환, 기창석, 김종욱
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회
29 Run-to-Run Control of Inductively Coupled C2F6 Plasma Etching of SiO2: Multivariable Controller Design and Numerical Application
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
28 Atomic scale etching of poly-Si in inductively coupled Ar and He plasmas
김태호, 민재호, 문상흡, 윤형진, 신치범, 김창구
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
27 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이광순, 양대륙, 최범규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
26 마이크로 부품 및 바이오 셀 그리핑을 위한 압전 out-of-plane 방식의 마이크로 그리퍼 설계 및 제조|Design and fabrication of out-of-plane type piezoelectric micro grippers for gripping micro parts and bio-cells
전창성, 박준식, 이상렬, 문찬우
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
25 C2F6 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 산화아연(ZnO) 식각에 관한 연구|Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas.
이건교, 이병택
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
24 CeO2 완충층을 이용한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 정지 특성|Etch Stop Characteristics of SrBi2Ta2O9 Thin Film by Using CeO2 Buffer Layer
권영석, 심선일, 김용태, 최인훈
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
23 High Density Plasma Etching of Hard Mask Materials of SiO2, α-C:H, and ZnO
라현욱, 옥치원, 이 석, 김상훈, 한윤봉
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
22 Dry Etching of SiO2 with C2F6 Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code
서승택, 이용희, 이광순
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
21 유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구|A study on the etching characteristics of Er doped optical waveguide films using Inductively Coupled Plasma Etching
송명곤, Jiehe Sui, 신동욱
한국재료학회 2004년 봄 학술대회