화학공학소재연구정보센터
번호 제목
20 High k and Flexible Polyimide/BaTiO3 Composite for Embedded Capacitor
최승훈, 박기홍
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회
19 Novel polymeric gate dielectric material for organic thin film transistor
강지훈, 한미정, 김지아, 김장주, 윤도영
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회
18 Nanocomposite insulator with embeded BST nanoparticles for organic thin film transistors
김세현, 양상윤, 박찬언
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회
17 Electrical properties of MIM capacitor with La2O3 dielectrics deposited by ALD
조상진, 하정숙, 김수영, 박원태, 강동균, 김병호
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
16 고유전 산화막 Lanthanium oxide의 PEALD 증착법|Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Lanthanium oxide for High-k gate dielectric
이은주, 고명균, 김범용, 박상균, 김헌도, 박종완
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
15 다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods.
김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
14 SAMs 패턴에서의 선택적 증착을 이용한 MIS capacitor 제작|Fabrication of MIS Capacitors by Selective Deposition Technique on Patterned SAMs
원상희, 오태관, 김지영
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
13 MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 화학적, 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE
문태형, 최지혁, 명재민
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
12 PEALD 방법으로 증착된 La2O3 게이트 산화물 박막의 전기적 특성|Electrical properties of lanthanum oxide films deposited by Plasma Enhenced Atomic Layer Deposition
이은주, 김범용, 고명균, 박종완
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
11 Tetrakis-diethylamido hafnium, trimethyl aluminum 그리고 water을 이용한 hafnia-alumina nano laminate 박막의 원자층 화학증착
김석훈, 이시우
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회