화학공학소재연구정보센터
번호 제목
19 HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure
최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
18 Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method
김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
17 다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods.
김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
16 Preparation of Cu thin films By Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Copper(Ⅱ) dimethylamino-2-propoxide
윤동준, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
15 플라즈마 발생원과의 거리에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석
고천광, 김광우, 이원규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
14 플라즈마 발생원으로부터의 위치에 따른 표면의 유기오염물 제거 효과 분석
고천광, 이원규
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
13 Enhanced Remote Photocatalytic Oxidation on Surface Fluorinated TiO2
박종성, 최원용
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
12 Product Design of Web-based Consulting System for Real–time Optimization of Compressor Systems
남동우, 이인범, 한종훈
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
11 원거리 플라즈마 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착한 ZrN 확산방지막의 특성에 관한 연구|Characteristics of ZrN deffusion barrier deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition method
황윤철, 조승찬, 김인배, 김양도, 김주연, 전형탁
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
10 Density measurement with the vibrating tube densimeter at high pressure
오경실, 배 원, 김화용
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회