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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method 김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Preparation of Cu thin films By Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Copper(Ⅱ) dimethylamino-2-propoxide 윤동준, 김도형 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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플라즈마 발생원과의 거리에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석 고천광, 김광우, 이원규 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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플라즈마 발생원으로부터의 위치에 따른 표면의 유기오염물 제거 효과 분석 고천광, 이원규 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Enhanced Remote Photocatalytic Oxidation on Surface Fluorinated TiO2 박종성, 최원용 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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Product Design of Web-based Consulting System for Real–time Optimization of Compressor Systems 남동우, 이인범, 한종훈 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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원거리 플라즈마 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착한 ZrN 확산방지막의 특성에 관한 연구|Characteristics of ZrN deffusion barrier deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition method 황윤철, 조승찬, 김인배, 김양도, 김주연, 전형탁 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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Density measurement with the vibrating tube densimeter at high pressure 오경실, 배 원, 김화용 한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |