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번호	제목
139	Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas 권봉수, 이정훈, 이내응 한국재료학회 2010년 가을 학술대회
138	GaN의 건식식각 및 열처리에 따른 전기·광학적 특성 송창호, 김준, 변창섭, 김선태 한국재료학회 2010년 가을 학술대회
137	2^nd Cu CMP 공정 후 유기산(organic acid)을 포함한세정액의 영향성 연구 조범구, 권오중, 김영준, 배재한, 김재정 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
136	Angular dependence of SiO₂ etch rates in C₄F₆/Ar/O₂and C₄F₆/Ar/O₂/CH₂F₂ plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
135	Dissolution characteristics of post-etch residues in aqueous solutions 고천광, 이원규 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
134	High-k/capping layer의 Gate Stack Etch Post Cleaning 연구 오지숙, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
133	SiO₂ Etching Studies in Inductively Coupled C₄F₆ Plasma 채화영, 장원석, 유동훈, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
132	Wet cleaning 공정 시 DI water의 온도에 따른 BPSG 막질의 특성 변화에 대한 연구 장재규, 윤민상 한국재료학회 2010년 봄 학술대회
131	Investigation on High Density Plasma Reactive Ion Etching of CoFeB Thin Films For Nonvolatile Magnetic Random Access Memory 김은호, 소우빈, 공선미, 정지원 한국공업화학회 2010년 가을 학술대회
130	DBRPorous Silicon Biosensor Effect of Lingker length on 양진석, 조성동 한국공업화학회 2010년 가을 학술대회