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NF3/Ar ICP를 이용한 SiO2/PR의 선택적 식각|Selective Dry Etching of SiO2 over Photo-resist using NF3/Ar Inductively Coupled Plasma
박형조, 한윤봉|Hyung Jo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 Y-Ba-Cu-O 초전도체 식각 및 소자 제작|High Density Plasma Etching of Y-Ba-Cu-O Superconductor and Device Application
임연호,한윤봉,강형곤,한병선|Y. H. Im,Y. B. Hahn,H. G. Kang,B. S. Han
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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Level set 방법을 이용한 실리콘 식각 프로파일 모사|Simulation of Silicon Etch Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method
임연호, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 식각공정에서 기판 온도상승에 관한 연구|Wafer Heating Effects during High Density Plasma Etching
임연호, 최창선, 김태희, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Chang Sun Choi, Tae Hee Kim, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 SiC박막 식각특성|Etching of SiC Thin Films in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas
최창선, 임연호, 박진수, 김태희, 한윤봉|C. S. Choi, Y. H. Im, J. S. Park, T. H. Kim, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 반도체 재료 식각기술|Etching Technology of Semiconductor Materials in High Density Plasmas
한윤봉|Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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강유전체 메모리 소자를 위한 Ir 박막의 고밀도 플라즈마 식각|High Density Plasma Etching of Iridium Thin Film for Ferroelectric Random Access Memory
임동규, 정지원|Dongkyu Lim, Chee Won Chung
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 박막의 식각|Inductively Coupled Plasma Etching of GaN Films with Cl2/Ar Discharges
한윤봉|Bum-Chul Cho, Yeon-Ho Im, Jin-Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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고집적 메모리 소자를 위한 Pt 전극의 Etching 특성|Etching Characteristics of Platinum Electrode for High Density Memory Devices
임동규, 김종성, 정지원|Dongkyu Lim, Jongsung Kim, Chee Won Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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비휘발성 반도체 메모리 응용을 위한 유도결합 플라즈마에서 Pt/PZT/Pt 박막 커패시터의 건식 식각|Dry Etching of Pt/PZT/Pt Thin Film Capacitors in an Inductively Coupled Plasma (ICP) for Nonvolatile Memory
정지원, 김창정|Chee Won Chung, Chang Jung Kim
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
