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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiO2 Thin Film
송소영, 박동화, 박영배
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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원격 환경감시 및 제어시스템의 개발|A development of Remote Monitoring and Control System
정재학,조종래,정재한,곽철규|Jae Hak Jung,Jong Rae Jo,Jae Han Jung,Chol Kyu Kwak
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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Remote plasma를 이용한 TiO2 박막 증착 및 특성분석|The characteristics of TiO2 thin film deposited by remote plasma
안경호,송소영,박동화|Kyoung-ho Ahn,So-young Song,Dong-wha Park
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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저온 원거리 플라즈마를 이용한 Si 기판의 유기오염물 제거|The Removal of Organic contaminants Using Low Temperature Remote Plasma on Si substrage
소현, 이기형, 서형탁, 전형탁, 김영채|Hyun Soh, Ki Hyung Lee, Hyungtack Seo, Hyeongtag Heon, Young Chai Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property
김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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광섬유반응기와 펄스조사를 활용한 MTBE 분해|Effect of pulse illumination on photocatalytic degradation of MTBE with a TiO2-coated fiber optic cables reactor
이태규, Michael R. Hoffmann|Tai Kyu Lee, Michael R. Hoffmann
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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유·무선 데이터 통신을 이용한 무인 공급기지의 상황 감지 시스템 개발|Development of Supervision and Data Acquisition System for Unattended Station Using Wire and/or Wireless Data Communication Fusion
노용우, 유휘룡, 박대진, 구성자|Yong Woo Rho, Hui Ryong Yoo, Dae Jin Park, Sung Ja Koo
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
