| 132 |
Synthesis of ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization
손해성, 차상호, 이원기, 이종찬, 김영호, 윤효진, 김명선, 백세경
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
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Synthesis and characterization of novel photopatternable organosilicate polymers
서지연, 심재환, 윤도영
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
| 130 |
Production of polymer particles in microfluidic reactors
문효승, 손대원
한국고분자학회 2008년 봄 학술대회 |
| 129 |
Free Standing PMMA 박막의 열적∙기계적 특성연구
남정은, 이종근, 배종성, 오충석, 이학주
한국고분자학회 2008년 봄 학술대회 |
| 128 |
TFT Array용 Negative형 유기 절연막 코팅액의 제조 및 공정 특성
권혁용, 이윤수, 문봉석, 박은정, 박이순
한국고분자학회 2008년 봄 학술대회 |
| 127 |
Photo-curable Negative Resist containing Oxetane moieties for MEMS technology
김수민, 박병하, 김진백
한국고분자학회 2008년 봄 학술대회 |
| 126 |
Preparation of ion-implanted photoresist film using supercritical carbon dioxide and additive
장원호, 원종우, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
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Fabrication of Line Patterns with a Microfluidic Photomask
최재훈, 이승곤, 김신현, 박성규, 양승만
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
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O2/SF6/CH4 플라즈마를 이용한 Acrylic의 건식 식각
박연현, 주영우, 김재권, 노호섭, 조관식, 이제원
한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
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Crosslinkable Polynorbornene with Phenylethynyl Groups for the Trilayer Photoresist System
우희제, 오세원, 차국헌
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
