화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 MOCVD법을 이용하여 증착된 (Ba,Sr)RuO3 박막의 특성평가|CHARACTERIZATION OF (Ba,Sr)RuO3 FILMS DEPOSITED BY MOCVD
김병수, 김윤수, 김현철, 최덕균
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
10 고온열처리가 측면결정화시킨 다결정 실리콘 박막의 미세구조와 박막트랜지스터 특성에 미치는 영향|Effect of high-temperature annealing on the microstructure of laterally crystallized polycrystalline Si films and the characteristics of thin film transistor
이계웅, 김보현, 안병태
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
9 다이아몬드 박막 합성에 미치는 WC-Co기판의 표면거칠기의 영향|Effect of Surface Roughness of WC-Co on Diamond Thin Film Synthesis
서성만, 신동욱, 이기선, 김동선
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
8 R.F. magnetron sputter를 이용한 SnO2 film 특성에 대한 Annealing 효과|Effects of Annealing on Properties of Tin Oxide films prepared by r.f. magnetron sputtering
박용주, 박진성
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
7 NiFe/FeMn/NiFe 다층박막의 씨앗층 에칭에 의한 교환 바이어스에 대한 연구|A Study on Exchange bias of Seed layer Etching on NiFe/FeMn/NiFe Multilayers
임재준, 윤상민, 호영강, 이영우, 김철기, 김종오
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
6 C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3
이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
5 불화탄소 플라즈마 식각시 바닥면으로부터 방출된 입자들이 벽면특성에 미치는 영향|Effects of bottom-emitted particles on the sidewall property in fluorocarbon plasma etching
민재호,황성욱,이겨레,문상흡|Jae-Ho Min,Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
4 ITO 위에서의 구리 무전해 도금을 위한 팔라듐 증착 방법 연구|A study of Pd deposition method for copper electroless plating on ITO substrate
차승환, 김재정|Seung Hwan Cha, Jae Jeong Kim
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
3 The Effect of Organosilane on Optical and Surface Properties in Silica Coatings
이만성, 정윤석*, 서판석**, 조남주*
한국고분자학회 2002년 봄 학술대회
2 CVD법으로 제조된 알루미늄, 구리 및 확산방지막의 증착특성|Aluminum and Copper with the respective barrier CVD
김도형|Do-Heyoung Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회