| 72 |
Cl2/Ar 가스를 이용한 ZnO 박막의 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각
민수련, 이장우, 조한나, 정지원
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
| 71 |
폐 Photoresist Stripper로부터 고순도 유기용제 재생을 위한 증류 공정 모델링
윤문규, 구기갑, 이문용
한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
| 70 |
Cinnammate 작용기를 지닌 무기고분자 전구체를 이용한 SiCN 세라믹 패턴 제조
김석선, 김동표
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
| 69 |
액상 PAC을 이용한 FPCB 패터닝 연구
오성상, 윤세훈, 이의수
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
| 68 |
Photoresist monomer 합성공정 연구
서민호, 신숭종, 안준태, 최부성, 이슬기, 오범종, 박융호
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
| 67 |
442nm에 반응하는 광고분자 필름의 개발 및 홀로그램 입체 영상 기법을 이용한 이미지 저장
김영환, 김대흠, 여승병, 임선애
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
| 66 |
Relationship between the acid diffusion length and line edge roughness in photoresists
김재현, 김영호, 김태성
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 65 |
Effect of water-contact on the roughness of patterned photoresist investigated by AFM analysis
안성일, 김재현, 진왕철
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 64 |
Negative Molecular Resists with Calix[4]resocinarene for DUV Lithography
오태환, 김진백
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 63 |
Synthesis and Characterization of Novel Polymeric Photoacid Generators for Direct Photochemical Modification of Surface
정성욱, 정명섭, 허남
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
