| 번호 | 제목 |
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Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane을 이용한 초고집적 회로용 구리 박막의 유기금속 화학증착|Chemical Vapor Deposition of Copper from Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane 손종훈, 박만영, 이시우|Jong-Hoon Son, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Tetrakis (dimethylamido) titanium을 이용한 TiN 유기금속 화학증착에서의 기상반응에 대한 연구|Study on the Gas Phase Reaction in Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of TiN 윤주영, 박만영, 이시우|Ju-Young Yun, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
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TEOS/O3을 이용한 게이트 산화막의 저온 화학증착|Low-temperature chemical vapor deposition (CVD) for gate oxide from TEOS/O3 김효욱, 이시우|Hyo-Uk Kim, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
