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박막 두께에 영향을 미치는 스핀 코팅 변수 제어 및 특성평가 (Control of spin coating process variables and evaluation of characteristics affecting thin film thickness)
한도형, 김도연, 황지용, 이진호, 지승환, 윤혜원, 정현수, 김우병
한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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β-Ga2O3의 photo-enhanced chemical 식각 공정에 따른 전기적 특성 분석
손종하, 권용범, 이건엽, 김지현
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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반도체 습식 세정 기술 개발 동향 및 계면화학을 응용한 세정제 개발
송명근
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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환경안전보건 경영시스템 운영을 위한 정량적 협력업체 평가 체크리스트에 대한 연구-반도체 공정(Clean room)에 한하여
유제영, 서민수, 이익모
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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팔라듐을 담지한 페로브스카이트 광촉매를 이용한 효과적인 톨루엔 제거연구
심지수, 이치현, 박대원, 임동하
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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Nano-piezoelectric Head Spray System 기반의 미세 반도체 세정 공정에 탑재 가능한 15μm 이하 내경의 미세 멀티홀 노즐 시스템 개발
김경학, 박범준
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회 |
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Effective segregation coefficient calculation in heavily doped Czochralski silicon crystals by considering the dopant evaporation from the melt
송도원, 배문주, 김상희, 이홍우
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Dependence of SiO2 etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C4F8 plasma
박창진, 김창구
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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반도체 공정에서 TEMAZ폭발사고 사례연구
양원백
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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반도체 증착공정의 원료물질 TEMAZ와 반응부산물의 열안정성
한인수, 최이락
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
