| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 12 |
반도체 부품세정을 위한 TiN 박막제거에 대한 연구 원동수, 김미희, 박세진, 이원규 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
| 11 |
Effects of size, humidity and aging on particle removal with high energy laser shock wave cleaning 김진수, 박진구, 김태곤 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
| 10 |
반도체 세정기술의 개발 동향 백귀종 한국공업화학회 2008년 가을 학술대회 |
| 9 |
Dry cleaning of organic contaminants on a Si wafer surface using atmospheric& vacuum plasma 송재동, 백지영, 이명화, 김상범, 김경수 한국공업화학회 2008년 가을 학술대회 |
| 8 |
Supercritical CO2 Resist Removal (SCORR) of Pattern Wafers 유기풍 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 7 |
45nm 반도체 세정기술 조중근 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 6 |
반도체세정 기술개발 정책|반도체세정 기술개발 정책 안동준, 최근민 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
| 5 |
2,2,2-trifluoroethanol(TFEA)의 대체 세정제 적용 연구 박진희, 김홍곤, 배재흠, 차안정 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
| 4 |
실리콘 웨이퍼 공정에서 in-situ 표면 및 기상특성 소 현, 김영채 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
| 3 |
포토마스크 제조 공정에서의 현상, 습식 식각 및 세정 기술 고찰 손용석, 이철중, 조준식, 정상현 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
