번호 | 제목 |
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Fabrication of Metal-Oxide Semiconductor via Atomic Layer Deposition System for Thin Film Transistor. 설현주, 정재경, 조민회 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
74 |
Atomic Layer Deposition of Electrocatalysts; PEC catalyst 신현정 한국공업화학회 2018년 가을 학술대회 |
73 |
Chemical materials in Atomic Layer Deposition 박인성 한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
72 |
선택적 영역 원자층 증착법의 표면 반응 메커니즘 및 선택비 향상을 위한 공정 개발 오일권, 김형준 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
71 |
2D Transition Metal Chalcogenides Electrocatalysts Prepared by Sequential Gas Phase Deposition 신현정 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
70 |
분무열분해된 TiO2 막의 광전기화학 특성평가 구본율, 오동현, 안효진 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
69 |
Characteristics of Kerfless Si wafer using stress induced metal layer 김경민, 장효식, 차함초롬 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
68 |
선택적 영역 원자층 증착법을 이용한 Al2O3 나노 박막 및 반응 메커니즘 연구 오일권, 김형준 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
67 |
원자층증착법을 이용한 수직채널 산화물반도체 박막트랜지스터 제작 및 평가 김여명, 김기현, 윤성민 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
66 |
HfO2 게이트 절연막의 원자층 증착법 공정온도에 따른 In-Ga-Zn-O 박막트랜지스터 특성의 비교평가 나소영, 윤성민, 김여명, 윤다정 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |