화학공학소재연구정보센터
번호 제목
5 고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구|Profile control of high aspect ratio silicon trench etch using SF6/O2/BHr plasma chemistry
함동은, 신수범, 안진호
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
4 초임계 유체를 포함한 생분해성 고분자와의 고압상거동|High Pressure Phase Behavior of Biodegradable Polymer in Supercritical Fluids
박 철,변헌수,이하연,강하성|Chol Park,Hun-Soo Byun,Ha-Yeun Lee,Ha-Sung Kang
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
3 CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma
황성욱,이겨레,민재호,문상흡|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
2 불화탄소 플라즈마 식각시 바닥면으로부터 방출된 입자들이 벽면특성에 미치는 영향|Effects of bottom-emitted particles on the sidewall property in fluorocarbon plasma etching
민재호,황성욱,이겨레,문상흡|Jae-Ho Min,Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
1 CHF3 플라즈마 고분자에 의한 복합막 제조|The Preparation of Composite Membranes by using Plasma Polymer of CHF3
현상원, 전법주, 윤용수, 정일현|Sang-Won Hyun, Bup-Ju Jeon, Yong-Soo Yoon, Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회