화학공학소재연구정보센터
번호 제목
13 Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas
권봉수, 이정훈, 이내응
한국재료학회 2010년 가을 학술대회
12 SiOC low k thin film via solution process.
김정주, 이윤주, 김수룡, 김영희, 최두진
한국재료학회 2010년 봄 학술대회
11 Cu/low-k BEOL공정에서의 혼합세정액의 개발 및 세정공정 특성 연구
고천광, 이원규
한국공업화학회 2010년 봄 학술대회
10 반도체 후공정 세정액 특성 연구
고천광, 원동수, 김태경, 손향호, 이원규
한국공업화학회 2009년 가을 학술대회
9 구리배선에서 식각후잔류물에 대한 세정액의 특성 연구
고천광, 이원규
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
8 Multi-directional plasma etching using a Faraday Cage
이승행, 민재호, 이진관, 장일용, 문상흡
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
7 반도체 제조공정에서 wafer의 warpage가 노광공정에 미치는 영향성
정명호, 윤상호, 김형희, 김일환, 김종혁, 김상진, 전진호, 박준수, 이중현, 한우성, 문주태, 노용한
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
6 렌즈형 휘도향상 필름 제조를 위한 패턴형성 기술
김기영, 이성일, 전애경
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
5 Cu BEOL 위한 세정용액의 각 성분이 갖는 CuO/Cu의 선택적 용해도에 대한 특성분석
이진욱, 고천광, 이원규
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
4 무잔류층 임프린팅을 이용한 자기 조립 단분자 막 패턴 형성에 대한 연구
양기연, 김종우, 이헌
한국재료학회 2006년 가을 학술대회