| 번호 | 제목 |
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Non-shrinkable photoresists based on camphor for ArF lithography 김진백, 오태환, 허윤희 한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
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DUV lithography 위상 변위 마스크용 Zr, Hf Oxide의 전자 상태 및 천이 상태 연구|The electronic states and transition state of Zr and Hf oxide as a phase shift maske for DUV lithography 김성관, 김양수, 노광수, 허성민, 최성운, 손정민 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
