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Characteristics of GST films prepared by cyclic plasma chemical vapor deposition
석경석, 정하나, 김도형
한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
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TiO2 thin film Coating on Glass Beads by Plasma Chemical Vapor Deposition and Its Application to NO and SO2 Removal by Dielectric Barrier Discharge-Photocatalysts Hybrid Process
김교선, Anna Nasonova, 김동주
한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |
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펄스 SiH4 플라즈마 공정에서 입자 성장에대한 공정 변수의 영향
김동주, 박정훈, 강진이, 나소노바 안나, Piyabutr Sunsap, 김교선
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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SiH₄플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실헙적 분석|Experimental Analysis on Particle Growth in SiH₄Plasma Reactor
홍성택,김동주,김교선|Sung-Taik Hong,Dong-Joo Kim,Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 플라즈마 반응기에서 실리카 미립자 성장분석|Analysis on Silica Particle Growth in TEOS/O2 Plasma Reactor
홍성택, 김동주, 김교선|Sung-Taik Hong, Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착|Diamond Thin Film Deposition by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)
원종각, 김종성, 홍근조, 권상직|Jongkak Won, Jongsung Kim, Kunjo Hong, Sangjik Kwon
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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FeaSibCcHd 박막의 물리·화학 및 광학적 특성|The Physicochemical and Optical Characteristics of FeaSibCcHd films
김경수, 윤용수, 김정규, 정일현|Kyung-soo Kim, Yong-soo Yoon, Jung-Gyu Kim, Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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공정 변수 변화에 따른 실란 PCVD 반응기에서의 입자 특성|The Characteristics of Particles in Silane PCVD Reactor Changing the Process Variables
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
