65 |
The effects of TEG-based levelers containing different counter anions on Cu electrodeposition 서영란, 오정환, 이윤재, 김명준, 이보람, 김재정, 김영규 한국공업화학회 2016년 봄 학술대회 |
64 |
Enhancement of the Directed Self-assembly Kinetics of Block Copolymers Using Binary Solvent Mixtures 김광호, 윤제문, 최영중, 박운익 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
63 |
Binary solvents induce rapid self-assembly kinetics of block copolymers with high-χ 최영중, 박운익, 김명진, 김광호 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
62 |
Atomic Layer Deposition of Al2O3 thin films using a new metallorganic precursor. 장병현, 이현정, 홍태은, 장동학, 여소정, 박정우, 김수현 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
61 |
Comparative study on ALD-WNx process using NH3 plasma and N2/H2 plasma 김준범, 김수현, 홍태은, 유범상 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
60 |
Narrow gap filling in 25 nm shallow trench isolation using highly porous organosilica 장정식, 오현택, LEE JAMES SANGMIN 한국공업화학회 2015년 가을 학술대회 |
59 |
Preparation of highly porous organosilica structure for narrow gap filling in 25 nm shallow trench isolation 서영덕, 장정식 한국공업화학회 2015년 봄 학술대회 |
58 |
Soft Graphoepitaxy for Block Copolymer Lithography in Ultralarge-Area 백정은, 김주영, 정성준, 김상욱 한국고분자학회 2014년 봄 학술대회 |
57 |
Investigation of Cu Electroless Deposition Mechanism in the presence of bis-(3-sulfopropyl)-disulfide (SPS) 민윤지, 임태호, 김광환, 김재정 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
56 |
Fabrication of mesoporous organosilica in a shallow nanotrench for low-k and high elastic modulus material application LEE JAMES SANGMIN, 장정식 한국공업화학회 2014년 가을 학술대회 |