화학공학소재연구정보센터
번호 제목
42 Use of heptafluoroisopropyl methyl ether for plasma etching of SiO2
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회
41 Annealing dependence of magneto-optical properties of bismuth substituted yttrium iron garnet films prepared through modified metal-organic decomposition method
viet dongquoc, 정종율
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
40 Dependence of SiO2 etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C4F8 plasma
박창진, 김창구
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
39 Electrostatic effects on the droplet contact charging phenomena
양석환, 임도진
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회
38 Synthesis of Bi-YIG Thin Film by Metal-Organic Decomposition Method
Viet Dongquoc, Rambabu Kuchi, Jong-Ryul Jeong
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
37 Charging behavior and electrochemical effect of electrolytes on droplet contact charging phenomena
양석환, 임도진
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
36 Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO2 etch rates in fluorocarbon plasmas
박정근, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
35 RF magnetron sputtering 방식으로 증착한 Silicon (Si)기판 위의 yttrium iron garnet (YIG) 박막의 구조적, 자기광학적 특성 연구
이예림, 정종율
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
34 Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
33 Angular dependence of Si3N4 etch rates in fluorocarbon plasmas
김준현, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회