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번호	제목
11	GPU based 3D feature profile simulation for ultra-high deep etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
10	3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C₄F₆/Ar/O₂ plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
9	GPU based 3D feature profile simulation for plasma etch process 조덕균, 유동훈, 육영근, 장원석, 천푸름, 이세아, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
8	3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etching processes 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
7	Reduction of contact hole diameter by alternating etching and deposition using a fluorocarbon plasma 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
6	Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
5	SiO₂ Etching Studies in Inductively Coupled C₄F₆ Plasma 채화영, 장원석, 유동훈, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
4	Effect of Gas Injection in Inductively Coupled Plasma with Fluorocarbon Plasma using Computational Fluid Dynamic Simulation 황진하, 김대경, 김민식, 박근주, 채희엽 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회
3	반도체 공정의 초정밀 장비의 내화학성 및 내절연성 향상을 위한 플라즈마 중합에 의한 fluorocarbon 코팅 지영연, 장홍기 한국고분자학회 2007년 봄 학술대회
2	불화탄소 플라즈마 식각시 바닥면으로부터 방출된 입자들이 벽면특성에 미치는 영향\|Effects of bottom-emitted particles on the sidewall property in fluorocarbon plasma etching 민재호,황성욱,이겨레,문상흡\|Jae-Ho Min,Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Sang Heup Moon 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회