| 30 |
Preparation of fluorescent pattern using conjugated polymer attaching rhodamine 6G derivative
남궁 호, 김종호, 이택승
한국고분자학회 2015년 봄 학술대회 |
| 29 |
Effect of acid diffusion control on triphenylsulfonium salt bound polymer resist.
정진혁, 박상욱, 이해원
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
| 28 |
An organic–inorganic hybrid material containing polyhedral oligomeric silsesquioxane based on a non-chemically amplified resist system
우승아, 김진백
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회 |
| 27 |
Synthesis and Application of Novel Photoacid Generator Bounding Polymer Resist for Electron Beam Lithography
강하나, 이해원, 권오정, 손경화
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 26 |
Design and syntheses of novel calixarene-based PAG bound molecular resists for EUV lithography
김현정, 하태환, 김영규
한국공업화학회 2012년 가을 학술대회 |
| 25 |
Triphenylsulfonium Triflate Bound- and Blended-Polymer Resists for Electron Beam Lithography
권오정, 김민정, 손경화, 강하나, 김은광, 이해원
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 24 |
Synthesis and Application of Triphenylsulfonium triflate Containing PMMA-Based Resist for Lithography
손경화, 김민정, 이해원
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Photoacid Generator Bound PMMA-Based Resist for nanostructure Fabrication
이해원, 김민정, 손경화, 해먼트 수렌드라 몬드카
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 22 |
Synthesis of Novel Chemically Amplified Photoacid Generator Containing Resist Polymer for Fabrication of Positivetone Nanostructure
김민정, 손경화, 권오정, 강하나, 해먼트 수렌드라 몬드카, 이해원
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Synthesis of novel terpolymer bounded PAGand Their Application as Electron beam Resists
김민정, 이고은, 유재범, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
