| 62 |
Synthesis of Novel Polymer Containing Photo-acid Generator and Its Application of Atomic Force Microscope Lithography
윤현진, 장유진, 권기진, 오희영, 이해원
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
| 61 |
Synthesis and Characterizations of Poly(oxyethylene) Derivatives and Polysiloxane Derivatives for Extreme-UV Lithography
류현수, 이종찬
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 60 |
Fabrication of Patterned Inverse Opals by using Multiple Photo-lithography
이승곤, 이기라, 양승만
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 59 |
Synthesis of Photoacid Generator Containing Resists for Atomic Force Microscope Lithography
윤현진, 오희영, 권기진, 이해원
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 58 |
Synthesis of UV-curable inorganic polymers for SiCN ceramic patterning via photolithography method
팜안투안, 김동표
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 57 |
Synthesis of 2-Hydroxyethyl methacrylate Based Copolymer by Atom Transfer Radical Polymerization and Its Application for Photoresist
심재혁, 김태호
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
| 56 |
초임계 단일상 혼합유체를 이용한 반도체 패턴 웨이퍼상의 post-metal each residue 세정 연구
김진우, 강창일, 김태형, 한갑수, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 55 |
Variation of flow rates with channel length in homogeneous and heterogenous micro-channel systems
김진용, 이효송, 유재근, 이영우
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 54 |
고밀도 CHF3 플라즈마 식각에서 바이어스 전압과 이온의 입사각에 따른 photoresist의 식각 속도와 SiO2에 대한 식각 선택도의 변화
강세구, 민재호, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 53 |
고밀도 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 반응성 이온 식각
민수련, 정지원, 이장우, 박익현
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
