| 번호 | 제목 |
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MOCVD 공정에 있어서 구리(Ⅰ) 전구체들의 열적 안정성과 반응 메카니즘에 관한 연구|Thermal stability and reaction mechanism of Cu(Ⅰ) precursors in the metal organic chemical vapor deposition 박만영, 이시우|Man-Young Park, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2 권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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p-Nitrophenyl α-D-Glucopyranoside를 당수용체로 이용한 Cyclodextrin Glucanotransferase의 당전이 반응 기작의 해석|Mechanistic Analysis of Transglycosylation Reaction of Cyclodextrin Glucanotransferase using p-Nitrophenyl α-D-Glucopyranoside 박동찬, 이용현|Dong-Chan Park, Yong-Hyun Lee 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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DMEAA를 이용한 알루미늄 유기금속 화학증착공정에서의 기사반응 메카니즘 연구|Study on Gas Phase Reaction Mechanism for Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) Process of DMEAA 박만영, 윤종호, 이시우|Man-Young Park, Jong-Ho Yun, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
