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번호	제목
49	High Density Plasma Etching of Hard Mask Materials of SiO₂, α-C:H, and ZnO 라현욱, 옥치원, 이 석, 김상훈, 한윤봉 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
48	Dry Etching of SiO₂ with C₂F₆ Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이용희, 이광순 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
47	다양한 슬러리 조건에서의 Ru 박막의 Etching 및 Polishing 거동\|Etching and Polishing Behaviour of Ru Thin Film at Various Slurries Condition 이진형, 이상호, 박진구 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
46	ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구\|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process 황재성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
45	CdTe 단결정 성장과 광학적 특성\|Growth and Optical properties for CdTe single crystal 유상하, 홍광준 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
44	Wet Chemical Etching of FeCrAl alloy for Microreactor Fabrication 라현욱, 옥치원, 한윤봉 한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
43	코발트/니켈 복합 실리사이드의 Metal Contact 건식식각 안정성\|Dry Etch Stability with Co/Ni Composite Silicide 정영순, 송오성 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
42	유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구\|A study on the etching characteristics of Er doped optical waveguide films using Inductively Coupled Plasma Etching 송명곤, Jiehe Sui, 신동욱 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
41	Angular distributions etch products from the bottom substrate in fluorocarbon plasmas 이진관, 이겨레, 민재호, 문상흡 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
40	High Density Plasma Etching of Magnetic Multi-layers of NiFe/Co and NiFe/Al-O/Co 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회