| 76 |
Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure
정미희, 최호석
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 75 |
SiP(System in Package) 조립공정시 소자 Solder 접합부의 접합강도에 미치는 Plasma 공정 변수의 영향|Effects of Plasma Process Parameter on Bond Strength of Component Solder Joints in SiP (System in Package) Assembly Process
송영식, 이용원
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 74 |
HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure
최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 73 |
불소처리를 통한 폴리이미드 필름과 잉크의 젖음성 및 접착성 개선효과|Effect of fluoro-surfactant on wetting and adhesion between ink and PI
조수환, 이정우, 정재우
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 72 |
Electrical Properties of Pt/Carbon Blacks Catalysts Modified by N2-Plasma Treatment
조미화, 김 석, 이재락, 류호진, 박수진
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
| 71 |
Effects of thermal and H2 plasma treatments on the structural and optical properties of amorphous carbon nitride films grown by PECVD
김상훈, 옥치원, 한윤봉
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
| 70 |
임베디드 박막 캐패시터용 유전막의 플라즈마 처리 효과에 대한 연구|A Study on the Effect of Plasma Treatment on Dielectric Layer for the Application of Embedded Thin Film Capacitor
임성택, 송원훈, 강형동, 정율교
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
| 69 |
플라즈마 처리에 의한 임베디드 케패시터용 유전 박막의 유전 특성 영향|The effect on the dielectric constant of embedded thin film capacitor by plasma treatment
송원훈, 임성택, 강형동, 정율교
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
| 68 |
Characteristics of Parylene C Photooxidation 파릴렌 C 고분자의 광산화 특성
남상철, 박호영, 임영창, 최규길, 이기창, 이재영
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
| 67 |
Influennce of Plasma Treatment on the Dyeability of Low Density Polyethylene Film
심규홍, 박수진
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
