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Polymer TFT Technology using Rubber Stamp Printing
문대규
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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Investigation of surface rearrangement of siloxane modified polyimide using NEXAFS
강진호;김영철;박찬언
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
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Non-Shrinkable Photoresists for ArF Lithography
김진백;오태환;최재학;이재준
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
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Photoresist의 개요와 소재의 개발동향
김상태;송형수
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
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실리콘 표면 유기물과 산화막 제거를 위한 플라즈마 효과|Effect of plasma for the removal of organic and oxide layer on Si surface
소 현,김의열,조일래,전형탁,김영채|Hyun Soh,Ui Yeol Kim,Il Lea Cho,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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INVAR 강 식각용액의 중금속 분리/회수 공정에 관한 연구|A Study on the Separation and Recycling of the heavy metals from the etchant of INVAR alloy
박무룡,송민철,박진호,|Mooryong Park,Minchul Song,Chinho Park,Jaeho Park,Choongho Kim,Goohak Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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Effects of Fluorine for Photoresist Properties
김진백, 김영우, 권영길, 이재준*
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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Molecular Resists Based on t-Butyl Cholate Derivatives for 193-nm Photoresists
김진백, 오태환, 권영길
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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Synthesis of Photoresist Containing Acetal Protected β-Keto Acid Group
김진백, 김경선
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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LCD Color Filter용 Photoresist 제조 기술과 개발 현황
박상욱, 조진우, 시윤기, 안정애, 안용식, 김경준
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
