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Molecular Resists Based on t-Butyl Cholate Derivatives for 193-nm Photoresists
김진백, 오태환, 권영길
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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전기화학적 에칭에 의한 알루미늄 전해 커패시터 전극 제조|Preparation of the Aluminum Electrolytic Capacitor Electrode by Electrochemical Etching
탁용석,김행영,최진섭,이재광,오재호|Yongsug Tak,Haengyoung Kim,Jinsub Choi,Jaekwang Lee,Jaeho Oh
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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실리콘의 건식식각에서 Microtrench의 생성 메카니즘|Formation Mechanism of Microtrench in Dry Etching of Silicone
임연호,한윤봉|Y. H. Im,J. S. Park,Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 Y-Ba-Cu-O 초전도체 식각 및 소자 제작|High Density Plasma Etching of Y-Ba-Cu-O Superconductor and Device Application
임연호,한윤봉,강형곤,한병선|Y. H. Im,Y. B. Hahn,H. G. Kang,B. S. Han
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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NiFe, CoFe 박막의 습식 식각 특성|Wet etch characteristics of NiFe,CoFe thin films
변요한,김혜인,정지원|Yo Han Byun,Hye In Kim,Chee Won Chung
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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GaN-based 발광소자에서 식각 속도에 기인한 PECVD 산화막 증착 조건에 관한 연구|Effect of Deposition Condition of PECVD SiO2 on Etch Rate for GaN-based LED
최창선,김태희,홍주형,박형조,한윤봉|C. S. Choi,T. H. Kim,J. H. Hong,H. J. Park,Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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Level set 방법을 이용한 실리콘 식각 프로파일 모사|Simulation of Silicon Etch Profiles in High Density Plasmas using a Level Set Method
임연호, 박진수, 한윤봉|Yeon Ho Im, Jin Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 ZnO박막의 식각 특성|Etch Characteristics of ZnO films in Cl2 based
박진수, 임연호, 최창선, 김태희, 한윤봉|J. S. Park, Y. H. Im, C. S. Choi, T. H. Kim and Y.B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 SiC박막 식각특성|Etching of SiC Thin Films in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas
최창선, 임연호, 박진수, 김태희, 한윤봉|C. S. Choi, Y. H. Im, J. S. Park, T. H. Kim, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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고밀도 플라즈마를 이용한 반도체 재료 식각기술|Etching Technology of Semiconductor Materials in High Density Plasmas
한윤봉|Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
