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AdPOC and t-AdOC as New Deprotecting Groups in Photoresist Material
김진백, 장지현
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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Negative Photoresists Based on Cholic Acid Methacrylate Copolymerized with Methacrylates with 1,3-Dioxolane and 1,3-Dioxane Rings as Crosslinkers
김진백, 고종성*, 장지현, 이범욱**
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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Synthesis of environmental-beneign photoresist for supercritical CO2 process
박혜진, 김장엽, 팽세웅, 김호준, 이상원, 허완수
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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고분자전자정보소재 연구동향
박재근
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
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폴리머의 O2 플라즈마 에칭을 위한 포토레지스트의 실릴화 특성 연구
이길현, 강동수, 김진봉, 이지훈*, 김동훈*
한국고분자학회 2002년 봄 학술대회 |
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환경친화적 O2,H2 플라즈마를 이용한 Photoresist 세정효과|The Effects of Photoresist Cleaning Using Envronmetal-friendly O2, H2 plasma
소현,김의열,김양도,전형탁,김영채|Hyun Soh,Ui Yeul Kim,Yangdo Kim,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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ITO glass의 사진 식각 공정에 관한 연구|Studies on the Photolithography of ITO glasses
황현민, 이태진, 박진호|Hyunmin Hwang, Taejin Lee, Chinho Park
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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Pt 박막의 패터닝 형성 및 저항소자의 온도-저항 특성 연구|The patterning of Pt thin film and temperature-resistance characteristics of RTD
원종각, 김지광, 김종성|Jongkak Won, Jikwang Kim, Jongsung Kim
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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반도체 초미세 가공용 포토레지스트 재료|Photoresists for Microlithography
정찬문|Chan-Moon Chung
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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자외선 경화형 Poly(styrene-co-itaconic acid)의 합성과 미세패턴형성|Synthesis and Micro-patterning of UV curable Poly(styrene-co-itaconic acid)
김준영, 안광덕, 김태호|Jun-Young Kim, Kwang-Duk Ahn, Tae-Ho Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
