| 14 |
플라즈마 반응가스에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석
김광우, 이원규
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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플라즈마 발생원과의 거리에 따른 유기오염물 제거 효율성 및 특성 분석
고천광, 김광우, 이원규
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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플라즈마 발생원으로부터의 위치에 따른 표면의 유기오염물 제거 효과 분석
고천광, 이원규
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정|UV/O3와 ECR plasma를 이용한 실리콘 웨이퍼상의 유기오염물의 건식세정
이종무
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
| 10 |
The Measurement of Cleaning Efficiency by Dry Ice Snow Impact
나영민, 김선근
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
| 9 |
실리콘 웨이퍼 공정에서 in-situ 표면 및 기상특성
소 현, 김영채
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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환경친화적 O2,H2 플라즈마를 이용한 Photoresist 세정효과|The Effects of Photoresist Cleaning Using Envronmetal-friendly O2, H2 plasma
소현,김의열,김양도,전형탁,김영채|Hyun Soh,Ui Yeul Kim,Yangdo Kim,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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SiO2와 Si 표면에서의 수소 원자 재결합|Hydrogen Atom Recombination at SiO2 and Si Surface
문수현, 이기형, 소현, 김영채, 문세기|Su Hyun Mun, Ki Hyung Lee, Hyun Soh, Young Chai Kim, Sei-Ki Moon
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
| 6 |
SiO2와 Si 표면에서의 수소 원자 재결합 확률값의 수치적 해석에 의한 측정|Hydrogen Atom Recombination at SiO2 and Si Surface
문수현, 김영채, 문세기|Su Hyun Mun, Young Chai Kim, Sei-Ki Moon
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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H2O2를 첨가제로 사용한 반건식 탈황 탈질 공정에 관한 연구|A Study on the De-SOx/De-NOx System of Semi-Dry Scrubber using H2O2 as an Additive
최연석, 김석준, 강호, 한의주|Yeon-seok Choi, Seok-joon Kim, Ho Kang, Euy-joo Han
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
