화학공학소재연구정보센터
번호 제목
17 실리콘 웨이퍼 공정에서 in-situ 표면 및 기상특성
소 현, 김영채
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
16 Plasma Chamber의 분석과 설계를 위한 종합적 Simulation Tool개발 : VIP-SEPCAD|Development of an Integrated Simulation Tool for Plasma Chamber Analysis and Design : VIP-SEPCAD
홍선표,황일선,김헌창,설용태|Seon Pyo Hong,Il Sun Hwang,Heon Chang Kim,Yong Tea Sul
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
15 블록공중합체 마이셀과 산소 플라즈마를 이용한 자성 산화철 나노패턴|Magnetic Iron Oxide Nanopatterns Fabricated by Block Copolymer Micelles with Oxygen Plasma
윤상현,손병혁|Sang-Hyun Yun,Byeong-Hyeok Sohn
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
14 실리콘 표면 유기물과 산화막 제거를 위한 플라즈마 효과|Effect of plasma for the removal of organic and oxide layer on Si surface
소 현,김의열,조일래,전형탁,김영채|Hyun Soh,Ui Yeol Kim,Il Lea Cho,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
13 산소플라즈마 처리를 통한 폴리우레탄 필름표면에 Polyacrylic acid grafting: 반응온도, 반응시간의 영향에 관한 연구|Polyacrylic acid grafting on the surface of Polyurethane(PU) films through oxygen plasma treatment: Effect of reation temperature and reaction time
김영선,권오준,최호석|Young-Sun,Oh-Jun Kwon,Ho-Suk Choi
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
12 산소 플라즈마 처리를 통한 폴리우레탄 필름표면에 Polyacrylic acid grafting|Polyacrylic acid grafting on the surface of PU films through oxygen plasma treatment
김영선, 권오준, 김은형, 장얀, 최호석|Young-Sun Kim, Oh-Jun Kwon, Eun-Hyung Kim, Yan Zhang, Ho-Suk Choi
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
11 순환유동층 반응기를 이용한 HDPE 입자의 산소 플라즈마 표면개질|Surface modification of HDPE powders by oxygen plasma in a circulating fluidized bed reactor
정순화,박성희,이동현,김상돈|Soon Hwa Jung,Soung Hee Park,Sang Done Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
10 산소 플라즈마로 표면 처리한 폴리우레탄 필터폼의 미생물 고정화능 향상에 관한 연구|A Study on the Enhancement of Microbial Adhesion of Polyurethane Filter Foam treated by Oxygen Plasma
김영선,명성운,최호석,최재혁|Young-Sun Kim,Sung-Woon Myung,Ho-Suk Choi,Jae-Hyuk Choi
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
9 Micro-Fluidics를 이용한 Micro-Bio Chip의 제작 및 응용|Fabrication and application of Micro-Bio Chip using Micro-Fluidics
정석,이용구,박준하,방현우,박성진,김중경,장준근|S. Chung,Y. Lee,J. Park,H. Bang,S. Park,J. Kim,J. Chang
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
8 산소플라즈마를 이용한 ITO(indium-tin-oxide) 표면처리 특성에 관한 연구|Studies on surface characterization of ITO(indium-tin-oxide) using O2 plasma treatment in OLEDs(organic light emitting devices)
김형식,이준호,이태진,김정문,박진호|Hyoungsik Kim,Junho Lee,Taejin Lee,Jeongmoom Kim,Chinho Park
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회