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번호	제목
17	Electrical and Optical Properties of Fluorocarbon Films Deposited in C₄F₈ Plasmas 박병훈, 권혁규, 산토시구마르마하파트라, 김창구 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
16	Optimization of Deep Si Etching using C₄F₈/SF₆and C₄F₆/SF₆ Plasmas 권혁규, 박병훈, 김창구 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회
15	Insulating Properties of Fluorocarbon Films Deposited in C₄F₈ Plasmas 박병훈, S.K. Mahapatra, 권혁규, 김창구 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회
14	Investigation of Etch Characteristics of Deep Si Etching in PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 권혁규, 우상호, 김일욱, 김창구 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
13	Multi-directional plasma etching using a Faraday Cage 이승행, 민재호, 이진관, 장일용, 문상흡 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
12	ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회
11	Study of substrate temperature effect on FC(Fluorinated carbon) film using C₄F₈(Octafluorocyclobutane) precursor. 성미린, 이계영, 김규채, 이선영, 임현우 한국재료학회 2007년 가을 학술대회
10	Compariosn of etch characteristics in deep Si etching using PFC- and UFC-containing plasmas 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
9	Characteristics of Polymer Films deposited in PFC- and UFC-containing Plasmas during the Bosch Process 권혁규, 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
8	Environment-Friendly Plasma Etching of High Aspect Ratio Deep Si 이형무, 박창한, 김창구 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회