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번호	제목
16	Large scale feature profile simulation for plasma etch process of high aspect ratio contact hole 육영근, 유동훈, 장원석, 최광성, 조덕균, 천푸름, 이세아, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
15	3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
14	Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
13	Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
12	GPU based 3D feature profile simulation for ultra-high deep etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
11	3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C₄F₆/Ar/O₂ plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
10	GPU based 3D feature profile simulation for plasma etch process 조덕균, 유동훈, 육영근, 장원석, 천푸름, 이세아, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
9	3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etching processes 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
8	Reduction of contact hole diameter by alternating etching and deposition using a fluorocarbon plasma 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
7	Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회