화학공학소재연구정보센터
번호 제목
319 3D NAND 식각 기술에 적용될 신규 L-HFC 식각 기술 연구
탁현우, 성다인, 홍인표, 문룡, 김동우, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
318 중성빔을 이용한 블록공중합체 패턴의 저손상 식각에 관한 연구
장원준, 김교운, 오지수, 김희주, 홍종우, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
317 Development of Dry Etching for the InGaZnO Film using CH4-Based Gas Chemistry with High Volatility of Etch By-Product
조현철, 정재경
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
316 Enhanced Selectivity of Atomic Layer Deposited Ru Thin Films through the Discrete Feeding of Vapor-Phase Inhibitor
Jeong-Min Lee, Ji Won Han, Tae Joo Park, Woo-Hee Kim
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
315 Characterization of various phenolic resins as spin-on carbon hardmask materials
노미소, 이병민, 최재학
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회
314 INVESTIGATION OF THE FORMATION OF WOX DURING W CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION
Palwasha Jalalzai, 박진구, Maneesh Kumar Poddar, 류헌열, 정연아, 김태곤
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
313 Study on Etch Characteristics of PRAM material using Hydrogen based Gases
길유정, 김두산, 김주은, 염근영
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
312 Si Nanostructure Etching Using Pulsed Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma
신예지, 김희주, 김교운, 오지수, 염근영
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
311 Pulsed biased 적용을 통한 Si와 TiO2 나노구조체의 식각 특성 향상에 대한 연구
김희주, 신예지, 오지수, 김교운, 염근영
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
310 Universal plasma etch reaction modeling for fluorocarbon plasma processes
유혜성, 임연호, 육영근, 박재형, 유동훈, 윤국현
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회