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Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO2의 식각특성에 관한 연구
염근영, 전민환, 김회준
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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Study of Slurry pH and oxidizer on Ge-doped SbTe film in PRAM CMP
Soo-Beom Kima, Jong-Young Cho, Jae-Hyung Lima, Hee-Sub Hwang, Jin-Hyung Park, Eung-rim Hwang, Jea-Gun Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
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Role of H2O2 as oxidizer on the Ge-doped SbTe film for Chemical Mechanical polishing
Sang-Hwa Woo, Jea-Gun Park, Jong-Young Cho, Hao Cui, Eung-Rim Hwang, Jin-Hyung Park
한국재료학회 2012년 가을 학술대회 |
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첨가물을 통한 Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식 에칭기술 개발
배진성, 임상우, 서동완, 박찬형
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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High Density Plasma Etching of IrMn Thin Films in a HBr/Ar Plasma
이태영, 이일훈, 이광희, 정지원
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
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BCl3 Gas와 Ar Neutral Beam을 이용한 High-k Dielectric Material의 초정밀 저손상 원자층 식각
김찬규, 민경석, 염근영
한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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Study of High SelectiveSilicon Nitride/Silicon Oxide Etching
배진성, 오지숙, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
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알칼리성 슬러리를 이용한 단결정 및 다결정 실리콘의 화학적 기계적 연마 특성 평가
김혁민, 권태영, 조병준, R. Prasanna Venkatesh, 박진구
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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nMOS high-k gate stack 형성을 위한 capping layer의 선택적 에칭
오지숙, 배진성, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
