화학공학소재연구정보센터
번호 제목
24 Electrical Properties of Aluminium Oxide Gate Dielectric Grown by Atomic Layer Deposition at Different Growth Temperture
김예균, 안철현, 윤명구, 조성운, 조형균
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
23 Improved Integration of high-K dielectric on MoS2 by Using Metal Oxide Seed Layer
손석기, 유선문, 최문석, 김도형, 최창환
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
22 Preparation of high-K polyimide (PI) nanocomposite using polypyrrole (PPy)-polyimide (PI) core-shell nanoparticles
홍예지, 김병각, 원종찬, 김용석
한국고분자학회 2012년 가을 학술대회
21 Preparation and mechanical property analysis of polyimide nanocomposite films having polypyrrole-polyimide core-shell nanoparticles
박종현, 박노균, 김병각, 홍예지, 원종찬
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회
20 High-performance thin-film-transistors based on MoS2 layered semiconductors
최웅
한국재료학회 2012년 가을 학술대회
19 BCl3 Gas와 Ar Neutral Beam을 이용한 High-k Dielectric Material의 초정밀 저손상 원자층 식각
김찬규, 민경석, 염근영
한국재료학회 2012년 봄 학술대회
18 nMOS high-k gate stack 형성을 위한 capping layer의 선택적 에칭
오지숙, 배진성, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
17 High performance polyimide-based gate dielectrics for organic and oxide field-effect transistors
안 택
한국고분자학회 2010년 가을 학술대회
16 High-k Dielectric Sol-Gel Hybrid Materials
예새미, 조병건, 권용구
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회
15 pMOS gate stack capping layer의 고선택비 습식에칭 기술연구
오지숙, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회