| 번호 | 제목 |
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The Effect of Porogen Structure on the Porous Low Dielectric Films 김수한, 차국헌, 한준희 한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
| 3 |
재진입을 고려한 반도체 공정에서의 최적 생산계획|Optimal Scheduling in Semiconductor Process Considering Reentrant Flows 정사무엘, 김상범, 이호경, 이인범|Samuel Chung, Sang-Bum Kim, Ho-Kyung Lee, In-Beum Lee 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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Al CMP과정에서 보호막 역할을 하는 알루미늄산화막에 대한 연구|Investigation of Aluminium Oxide Functioning as a Passivating Layer during Al CMP 최재광, 탁용석|Jaekwang Choi, Yongsug Tak 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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3-D PTV 기술 및 CFD code를 이용한 반도체 세정 Bath내의 유동현상 측정 및 해석|The Measurement and Analysis of Phenomenological Fluid Motion in the Cleaning Bath for Semiconductor Process Using 3-D PTV Technique & CFD 강운용, 이민수, 함승주, 박헌휘|Woon-Yong Kang, Min-Soo Lee, Seung-Joo Haam, Hun-Hyee Park 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
