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PECVD Chamber 구조가 SiO2 박막 증착의 균일도에 미치는 영향에 관한 연구|Numerical Studies on Effect of Chamber Geometry on Uniformity of SiO2 Deposited by PECVD
김성재,김헌창,임계규|Seong Jae Kim,Heon Chang Kim,Key Kyu Lim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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기상반응법에 의한 철-실리콘 합금 나노 분말 제조|Synthesis of Fe-Si Alloy Nanoparticles by Gas Phase Reaction
박종관,박균영|Jongkwan Park,Kyun Young Park
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 플라즈마 반응기에서 실리카 미립자 성장분석|Analysis on Silica Particle Growth in TEOS/O2 Plasma Reactor
홍성택, 김동주, 김교선|Sung-Taik Hong, Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 저유전체 박막의 제조 및 특성|Plasma enhanced chemical vapor deposition and characterization of low-k dielectric thin film
김태희,홍주형,한윤봉|Tae-Hee Kim,Joo-Hyung Hong,Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
