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RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Advances in Post CMP Cu Cleaning|Advances in Post CMP Cu Cleaning
박진구
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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고온연료가스의 초정밀 정제를 위한 2단계 탈황시스템의 개념설계 및 탈황제의 반응특성 연구
박노국, 김동현, 이동활, 강익수, 이종대, 전진혁, 류시옥, 이태진, 김재창
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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반도체 Wet Cleaning Process
조일현
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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세라믹 필터 고속 세척시 내부 유동장 전산모사|A Computational Simulation of Pulse Jet Cleaning ProcessA Computational Simulation of Pulse Jet Cleaning Process
김선현,이성철|Sun-Hyun Kim,Sung-Chul Yi
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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승화성 고체 미립자를 이용한 표면세척공정에 관한 연구|Research of surface cleaning process by sublimate solid particles
윤철남, 김선근|Cheol-Nam Yoon, Sun-Geon Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
