화학공학소재연구정보센터
번호 제목
58 9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer
김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
57 Effect of Deposition Parameters on the Property of Silicon Carbide Layer in Coated Particle Fuels
김연구, 김원주, 여승환, 조문성
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
56 Solar cells with tin sulfide absorber layer prepared by metal organic chemical vapor deposition
최지운, 이영국, 이창완, 김건환, 정택모, 김동준
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
55 Characteristics of ink-synthesized Cu-gate thin film transistor with diffusion barrier
김형준, 우황제
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
54 Atomic Layer Deposition of Al2O3 thin films using a new metallorganic precursor.
장병현, 이현정, 홍태은, 장동학, 여소정, 박정우, 김수현
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
53 Comparative study on ALD-WNx process using NH3 plasma and N2/H2 plasma
김준범, 김수현, 홍태은, 유범상
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
52 Photoluminescence Properties of CaMoO4:Eu3+,Dy3+ White Light Thin Films Deposited on Glass Substrates by Radio-frequency Magnetron Sputtering
김정대, 조신호
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
51 Effect of temperature on the characteristics of ZnO Seed layer
배선호, 김대식, 정서주, 정우섭, 변동진
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
50 Fabrication and characterization of Bi2Te3 thermoelectric films by using plasma-enhanced chemical vapor deposition technique
Chang Wan Lee, Seong Gu Kang, Yoon Jang Chung, Hyung Jun Kim, Young Kuk Lee
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
49 Film characteristics of Zinc Oxide Grown by Atmospheric Mist Chemical Vapor Deposition
배재윤, 전혜지, 박진성
한국재료학회 2014년 봄 학술대회