| 20 |
Synthesis of Highly-Sensitive Resists Containing Photoacid generator for Electron Beam Lithography
김민정, 유재범, 이고은, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
| 19 |
Synthesis of Photoacid Generator Bound Polymer Resist for Atomic Force Microscope Lithography
이고은, 아쇽나뉴사가, 김민정, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
| 18 |
Improved Top Surface Imaging Process for High Aspect Ratio Patterns
우승아, 박지영, 김수민, 김진백
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
| 17 |
Low temperature and photocurable organic gate insulator for hysteresis free pentacene thin-film transistor
이진희, 김지영, 안택, 이미혜, 가재원, 황택성
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
| 16 |
Dual Responsive Materials for Sequential Patterning by Thermal Imprint and Photolithography
민창수, 김진백
한국고분자학회 2008년 가을 학술대회 |
| 15 |
Cross-Linking using Atomic Force Microscopy on PAG Polymer
정미혜, 아쇽 나뉴 사가, 김상현, 이고은, 이해원
한국고분자학회 2008년 봄 학술대회 |
| 14 |
Photocurable Materials Containing DCM Dye Moiety for OLED
박지영, 김진백
한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
| 13 |
Synthesis and Application of Polymer Containing Photo-acid Generator for Atomic Force Microscope Lithography
권기진, 장유진, 안석훈, 이해원
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
| 12 |
High Resolution Fluorescent Photoimag of Polymers Having tBOC-protected Dye Precursors by KrF Laser Lithography under Dry Process
강종희, 소진호, 안광덕, 유경욱, 김상태
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Characterization of Novel Polymeric Photoacid Generators for Direct Photochemical Modification of Surface
정성욱, 정명섭, 허남
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
