화학공학소재연구정보센터
번호 제목
104 Chemical Imidization에 있어서 탈수제 및 촉매 함량에 따른 건조 및 이미드화 조건 최적화 연구
곽상민, 이연빈, 박노형
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회
103 Adhesion and Friction Behavior of Nano-haired Structures
이동윤, 이대호, 황선규, 이건홍, 조길원
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회
102 Selective Synthesis of Single-Crystalline ZnO Nanostructures by a Sonochemical Route under Ambient Conditions
정승호, 정수환, 이건홍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
101 양극산화 알루미늄을 이용한 나노/마이크로 멀티 스케일 캔틸레버의 제작
이정현, 이건홍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
100 LCD backlight용 면광원 개발
손규용, 이건홍, 진상호, 권순주
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
99 Growth of metal nanowire by microwave irradiation
심대섭, 이건홍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
98 RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
97 세정 성능 평가를 위한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 입자 오염 방법|Particle Contamination Method on Si Wafer Surface for Evaluation of Cleaning Efficiency
김규채, 권태영, 이승호, 이상호, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
96 열전소재용 Bi2Te3 도금층의 전착거동 및 특성에 관한 연구|Deposition behavior and characteristics of electrodeposited Bi2Te3 films for thermoelectric materials.
이경환, 이수, 이규환, 김동호, 이건환
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
95 반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회