| 번호 | 제목 |
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| 30 |
포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 계면활성제를 이용한 세정 효과 양자현, 임경택, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
| 29 |
반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 28 |
반도체 후공정 세정액 특성 연구 고천광, 원동수, 김태경, 손향호, 이원규 한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
| 27 |
용액에 포함된 Amine과 Carboxyl group의 Cu식각잔류물 제거특성 고천광, 김아름, 손향호, 이원규 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
| 26 |
반도체 부품세정을 위한 TiN 박막제거에 대한 연구 원동수, 김미희, 박세진, 이원규 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
| 25 |
이중 선회유동 스크러버의 입자 제거효율 임경수, 이시훈, 박현설 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 24 |
플라즈마내의 이온 충격을 이용한 Photoresist strip 용액의 활성화방법 연구 김수인, 이창우 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
| 23 |
구리배선에서 식각후잔류물에 대한 세정액의 특성 연구 고천광, 이원규 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
| 22 |
선회유동 및 충돌노즐을 이용한 스크러버의 가스상물질 제거효율 임경수, 이시훈, 박현설 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Cu BEOL을 위한 혼합세정액의 개발 및 성분별 특성 분석 이진욱, 이원규 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
