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번호	제목
22	A comparative study on deep Si etching using PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 박창한, 김창구 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회
21	Pt 하드마스크를 이용한 Ti 박막의 고밀도 플라즈마 식각 민수련, 조한나, 정지원, 리유에롱 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회
20	고밀도 CHF₃ 플라즈마 식각에서 바이어스 전압과 이온의 입사각에 따른 photoresist의 식각 속도와 SiO₂에 대한 식각 선택도의 변화 강세구, 민재호, 이진관, 문상흡 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
19	OES를 이용한 평판형 유도결합 BCl₃/SF₆ 플라즈마 식각 특성 연구\|A Study of Etching Characteristic in Planar Inductively Coupled BCl₃/SF₆ Plasma by OES 박민영, 이제원, 장수욱, 노호섭, 조관식, 박강수, 박건수, 윤진성 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
18	Femtosecond laser의 조사에 의한 실리카 유리의 굴절률변화.\|The changed refractive index of Ge-BPSG by Femtosecond laser. 조기현, 송명곤, 신동욱, 이건준, 이영백 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
17	MRAM 응용을 위한 강자성 박막재료의 고밀도 플라즈마 식각 박형조, 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
16	CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성\|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma 황성욱,이겨레,민재호,문상흡\|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
15	불화탄소 플라즈마 식각시 바닥면으로부터 방출된 입자들이 벽면특성에 미치는 영향\|Effects of bottom-emitted particles on the sidewall property in fluorocarbon plasma etching 민재호,황성욱,이겨레,문상흡\|Jae-Ho Min,Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Sang Heup Moon 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
14	MRAM 응용을 위한 자기박막의 고밀도 플라즈마 식각\|High-Density Plasma Etching of Magnetic Films for MRAM Applications 박형조,한윤봉\|Hyung-Jo Park,Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
13	InGaN/GaN 다중 양자우물 발광 다이오드의 플라즈마 식각 손상 특성\|Plasma-Induced Etch Damage of InGaN/GaN Multiple Quantum Well Light-Emitting Diodes 최락준,최창선,박형조,한윤봉\|Rak-Jun Choi,Chang-Sun Choi,Hyung-Jo Park,Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회